高浓度臭氧检测仪用于ALD

ALD用高浓度臭氧检测仪

ALD (Atomic Layer Deposition) 是一种薄膜沉积技术，它通常使用气相前体分子交替进入反应室，通过化学反应逐层沉积固体薄膜。在ALD过程中，臭氧通常被用作一种氧化剂，用于氧化金属有机前体分子，例如氧化锌或氧化铝。

ALD的关键特点之一是其单分子层的控制，这就要求对反应条件以及气相前体和反应物质的选择具有非常精确的控制。臭氧在ALD过程中可以提供高效的氧化反应，将金属有机前体脱除有机基团，形成金属氧化物的单层。这种精确的控制使得ALD成为一种非常重要的薄膜沉积技术，广泛应用于半导体、光电子、纳米技术等领域。

因此，臭氧在ALD中起到了至关重要的作用，提供了必要的氧化反应以实现单层薄膜的沉积，并在微纳加工和纳米制造中发挥着关键作用。